光刻机NA指的是数值孔径。
在光学和芯片制造领域，NA是物镜和聚光器的主要参数，一般光刻机设备都会明确标注该指标的数值。在光源波长不变的情况下，NA的大小直接决定和光刻机的实际分辨率，也等于决定了光刻机能够达到的最高的工艺节点。
High-
NAEUV是指下一代光刻设备，与现有的EUV光刻设备相比，可以雕刻出更精细的电路，其被认为是一个改变游戏规则的设备，将决定3纳米以下代工市场技术竞赛的赢家。
光刻时代和宁德时代是两个不同的概念，宁德时代是一家中国新能源汽车和储能解决方案提供商，而光刻时代是指半导体制造领域的一个阶段。光刻是半导体制造中的关键工艺之一，用于制造集成电路中的微米级芯片。在光刻时代，光刻技术得到了快速发展，为半导体产业的进步做出了重要贡献。
宁德时代是以生产锂离子电池为主的企业，主要供应给新能源汽车等领域使用。宁德时代在新能源汽车领域具有较高的知名度和市场份额。
综上所述，光刻时代和宁德时代是两个不同的概念，不要混淆。